平板氧化铝粉是以工业氧化铝粉为主要原料,通过特别处理,高温控制晶粒生长方向,颗粒呈特别的平板状结构,硬度高,磨削力强,不易产生划痕,是一种常用的抛光研磨磨料,具有化学惰性,优异的耐热性,耐酸碱腐蚀性。
平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:
1、电子行业:单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛;
2、玻璃行业:硬质玻璃和显象管玻壳的加工;
3、涂附行业:特种涂料和等离子喷涂的填充剂;
4、金属和陶瓷加工业。
平板状氧化铝粉采用特别的生产工艺,使其颗粒尺寸更均匀,平板状氧化铝粉的晶体形状为六角平板状,区别于传统磨料的等积型或球形,这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面,产生滑动的研磨效果,而非传统磨料的滚动研磨,因而不容易对工件表面产生随机划伤,同时,由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面,颗粒破碎减少,耐磨性大幅提高,因而能提供较好的磨削效率和表面光洁度,平板状氧化铝粉研磨粉能够减少研磨和拋光次数至少10- 20%,能够实现快速研磨和抛光。
平板状氧化铝粉的特点为:
1、形状为平板状,即片状,使磨擦力加大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间;
2、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%左右;
3、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%左右;
4、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%- 60%左右。
平板状氧化铝抛光研磨微粉的特点:
1、此产品主要成分为工业氧化铝,纯度达到90%以上,具有化学惰性,优异的耐热性,耐酸碱腐蚀性;
2、晶体形状为六角平板状,区别于传统磨料的等体积或者球形,此形状使得磨料颗粒在研磨过程中平行于被加工工件(如半导体硅片等)表面,产生滑动的研磨效果,而非传统的磨料滚动研磨,因而不容易对工件表面产生划伤,同时因为研磨压力是均匀分布在平板颗粒表面,颗粒破碎减少,耐磨性大幅度提高,因而能提供较好的磨削效率,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,大大提高了工厂的工作效率,降低了成本;
3、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%左右。
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